簡介

鍍鋁膜是通過真空鍍鋁工藝將高純度的鋁絲在高溫（1100~1200℃）下蒸發成氣態，之后塑料薄膜經過真空蒸發室時，氣態的鋁分子沉淀到塑料薄膜表面而形成的光亮金屬色彩的薄膜。鍍鋁膜是采用特殊工藝在塑料薄膜表面鍍上一層極薄的金屬鋁而形成的一種復合軟包裝材料，其中最常用的加工方法當數真空鍍鋁法。由于鍍鋁膜既具有塑料薄膜的特性，又具有金屬的特性，是一種廉價美觀、性能優良、實用性強的包裝材料。

生產工藝

塑料薄膜的鍍鋁工藝一般采用直鍍法，即將鋁層直接鍍在基材薄膜表面。BOPET、BOPA薄膜基材鍍鋁前不需進行表面處理，可直接進行蒸鍍。而BOPP、CPP、PE等非極性塑料薄膜，在蒸鍍前需對薄膜表面進行電暈處理或涂布黏合層，使其表面張力達到38-42達因/厘米或具有良好的粘合性。蒸鍍時，將卷筒薄膜置放于真空室內，關閉真空室抽真空。當真空度達到一定（4×10－4mba以上）時，將蒸發舟升溫至1300℃～1400℃，然后再把純度為99．9%的鋁絲連續送至蒸發舟上。調節好放卷速度、收卷速度、送絲速度和蒸發量，開通冷卻源，使鋁絲在蒸發舟上連續地熔化、蒸發，從而在移動的薄膜表面冷卻后形成一層光亮的鋁層即為鍍鋁膜。

真空蒸鍍原理

將被鍍膜基材（筒狀〕裝在真空蒸鍍機中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發成氣態鋁。氣態鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經冷卻還原即形成一層連續而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁膜的寬度為800mm～2000mm。

蒸鍍方法：在基材表面蒸鍍鋁的方法有直接蒸鍍法和轉移法兩種。

1、直接蒸鍍法。

是被鍍基材直接通過真空鍍膜機，將金屬鋁蒸鍍在基材表面而形成鍍鋁膜。直接蒸鍍法對基材的要求較高，尤其是要形成表面光亮的金屬膜，必須要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，要采用直接蒸鍍法，在鍍鋁前需先進行表面涂布。另外，在蒸鍍過程中基材的揮發物要少。因此直接蒸鍍法對基材有較大的局限性，它主要適合于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質量要求高，并對紙的定量有一定的限度。

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